SEPHORA COLLECTION - BEST SKIN EVER – Podkladová báze v tyčince

BEST SKIN EVER ve formátu tyčinky: 1 minuta pro hladký upravený(1) a přirozený vzhled pleti; vždy 16hodinová výdrž( ) a pohodlí(1). – Textura: Krém/tyčinka. – Krytí: Střední až silné vrstvitelné. – Výsledný efekt: Přirozený. – Typ pleti: Suchá normální mastná smíšená. – Výhoda: 8 hodin hydratace(3)1 MINUTA PRO HLADKOU A UPRAVENOU PLEŤ(1)Podkladová báze v tyčince BEST SKIN EVER vám poskytne dokonalý ale přirozený vzhled pleti za 1 minutu(1). Díky vrstvitelnému střednímu až vysokému krytí viditelně zjemňuje póry vyhlazuje jemné vrásky a zakrývá nedokonalosti pro bezchybnou pleť. Jeho krémová a lehká textura je na pleti nepostřehnutelná a nezvýrazňuje suché oblasti pro přirozený efekt bez pocitu silné vrstvy. POHODLÍ A VÝDRŽ 16 H( )Tuhé složení se vstřebává do pokožky a proměňuje se v nepostřehnutelný závoj bez mastného nebo lepkavého efektu. Ultralehká textura je na pokožce neznatelná a zůstává příjemná po celý den. Pleť zůstává hydratovaná 8 hodin(3) bez pocitu napětí. Výsledek zůstává bezchybný od rána do večera a po 16 hodinách( ) je tón stále svěží a sjednocený beze stahování do jemných vrásek. BEST SKIN EVER PLUS SNADNĚJŠÍ NEŽ KDY DŘÍVKrémové složení tyčinky BEST SKIN EVER se snadno roztírá pro rychlou a bezproblémovou aplikaci. Ať už se nanáší štětcem nebo prstem v klidu nebo ve spěchu s texturou se vždy snadno pracuje. Formát umožňuje víceúčelovou aplikaci: na celý obličej nebo pouze na určité oblasti pro cílenější a přirozenější výsledek. A konečně praktické balení se snadno vejde do kapsy nebo tašky pro úpravy během dne. PODKLADOVÁ BÁZE VHODNÁ PRO VŠECHNY Složení podkladové báze v tyčince BEST SKIN EVER je vhodné pro všechny typy pleti nekomedogenní a testované pod dermatologickou kontrolou. Je k dispozici ve 0 odstínech z řady tekutých make-upů BEST SKIN EVER a vyrábí se v Itálii. (1) Test spokojenosti na 33 osobách. ( ) Klinická studie na 0 osobách 16 hodin po aplikaci. Přístrojové měření. (3) Klinická studie na 10 osobách 8 hodin po aplikaci. Přístrojové měření.